单价超19亿 Intel全球首个送达订购ASML最先进EUV光刻机：性能大增

1年末19日新闻报道，Intel宣布第一个装配采购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。

TWINSCAN EXE:5200是ASML的很低NA（数值孔径）EUV光刻机，其集装箱极限每小时220片晶圆（wph）。

从示意图来看，EXE:5200原订最快2024年底新建，2025年开始大规模应用于技术芯片的生产。

事实上，4年前，ASML的第一代很低NA（0.55 NA）光刻机EXE:5000，Intel就是第一个装配的公司。不过局限性的7nm、5nm芯片还并非是其生产，而是0.33NA EUV光刻机。

和0.33NA光刻机相对来说，0.55NA的分辨率从13nm替换到8nm，可以非常快非常好地曝光非常多样的集成电路图案，跃进0.33NA即会构图32nm到30nm间距的极限。

部分人原订，第一代很低NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm路由器，至于EXE:5200，按照Intel的制程示意图，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。

此前，ASML回应曾对电子媒体透露，较低的光刻分辨率将允许芯片较小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm非常技术的工艺，将极度依赖很低NA EUV光刻机。

再一不得不话说，Intel能抢到第一单，除了和ASML一致紧密合作外，当然也是因为“宝钞并能”，Gartner分析师Alan Priestley所称，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元（总计19亿元）。